碳化硅脱氧剂生产所用设备
碳化硅设备行业深度报告： S i C 东风已来，关注衬底 ...
碳化硅(SiC)具有更高热导率、高击穿场强等优点,适用于制作高温、高频、高功率器件,新能源汽车是未来第一大应用市场,2027年新能源汽车导电型SiC 功率器件市场规模有望达50 亿 2024年2月18日 此外，天科合达、晶盛机电、同光股份、烁科晶体等企业也已成功研发了碳化硅晶体生长设备，但主要用于自身碳化硅衬底的生产制造，而非对外销售。多达数十家，SiC关键设备企业图谱 - 知乎2024年3月28日 作为全球高端半导体设备制造商，来自德国的PVA TePla同样亮相本次展会，并对外展示旗下最新产品——首款国产碳化硅晶体生长设备“SiCN”。 专为 ...首款国产碳化硅生产设备， PVA TePla助力中国半导体 ...
行 业 研 机械设备 关注碳化硅设备国产化突破和加速 ...
用专用设备，部分需要在硅设备基础上加以改进。 根据我们梳理，目前长晶设备 已基本实现国产化，其他各工艺环节设备国产化率在0%-20%之间。2024年1月17日 与之对应的七大类的生产设备包括：扩散炉、光刻机、刻蚀机、离子注入机、薄膜沉积设备（包括pecvd、lpcvd、ald等）、化学机械抛光机、清洗机。 离子注入机是芯片制造中的关键装备。一个能打的都没有？SiC芯片制造关键设备再突破2024年3月22日 随着中国成为全球碳化硅的重要生产基地，德国PVA TePla集团将持续深耕中国市场，加强本土化生产供应与配套服务能力，深化本地创新研发合作，助力中国半导体产业高质量发展。打造首款国产碳化硅生产设备， 德国PVA TePla集团助
英罗唯森：开启碳化硅设备先河_澎湃号媒体_澎湃 ...
2021年1月15日 碳化硅硫酸裂解器是公司与清华大学核能研究院共同开发的微通道碳化硅反应器，可以在压力5MPa、900℃环境下使用。 该产品己授权专利3件，其中发明专利1件。 据徐鹏飞介绍，清华大学核研院在碘硫热 碳化硅脱氧剂是一种新颖的高性能复合 脱氧剂 ，可代替价格较贵的传统脱氧剂 硅铁粉 和合金粉，适用于普钢、 合金钢 和特种钢冶炼时脱氧，金石碳化硅脱氧剂具有脱氧迅速、成渣 碳化硅脱氧剂 - 百度百科
